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题名:
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工程光学基础 / 吴晓红, 王中林主编 , |
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ISBN:
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978-7-5352-3929-7 价格： CNY26.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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211页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 武汉 出版社： 湖北科学技术出版社 出版日期： 2008.02 |
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内容提要:
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本书内容包括:几何光学基础、理想光学系统、光学系统中的光束限制、像差概论、典型光学系统、光的波动理论基础、光的干涉、光的衍射现象及其应用、 晶体光学基础等。 |
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主题词:
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工程光学 高等学校 |
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中图分类法:
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TB133 版次： 5 |
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主要责任者:
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吴晓红 主编 |
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主要责任者:
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王中林 主编 |
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附注:
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湖北高职“十一五”规划教材 湖北省高等教育学会高职专委会研制 湖北省教育科学“十一五”规划专项资助重点课题成果 |